本产品广泛用于各种温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、殊纳米薄膜；能够适应未来温条件下成膜的科学的发展。

、 主要点：

1、强风加热和数字显示温度控制的烘干系统，zui工作温度200℃；
2、涂膜速度在0～100mm/秒范围内可调，并且带数字显示；
3、真空铝盘，可快速放置或取下片；
4、带调整涂膜厚度（精度0.02mm）宽度0-140mm的刮刀；

二、 参数：

1、涂抹速度：0～100mm/秒；
2、zui大行程：220mm；
3、真空板 ：带真空铝平板 ；
4、真空板尺寸：365mm(L)×200mm(W)×30mm(H)；
5、刮刀可调范围：0.02～2
6、加热烘干系统：室温～200℃,数显温度控制器,精度±1℃
7、重量：45KG
8、电源：220V ±10%

本产品广泛用于各种温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、殊纳米薄膜；能够适应未来温条件下成膜的科学的发展。

、 主要点：

1、强风加热和数字显示温度控制的烘干系统，zui工作温度200℃；
2、涂膜速度在0～100mm/秒范围内可调，并且带数字显示；
3、真空铝盘，可快速放置或取下片；
4、带调整涂膜厚度（精度0.02mm）宽度0-140mm的刮刀；

二、 参数：

1、涂抹速度：0～100mm/秒；
2、zui大行程：220mm；
3、真空板 ：带真空铝平板 ；
4、真空板尺寸：365mm(L)×200mm(W)×30mm(H)；
5、刮刀可调范围：0.02～2
6、加热烘干系统：室温～200℃,数显温度控制器,精度±1℃
7、重量：45KG
8、电源：220V ±10%